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使用完超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)之后的清洗工作是相當(dāng)重要的

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  超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)在我們生活中運用領(lǐng)域很廣泛,但是大家卻不懂的去保養(yǎng)。要知道任何儀器在使用完不進(jìn)行清洗是影響其壽命的重要因素,所以今天就跟大家說說超聲波細(xì)胞粉碎儀常見的幾種清洗方式,話不多說下面讓我們一起來了解一下吧。
 
  1、溶劑清洗
 
  比較傳統(tǒng)的方法,其優(yōu)點是清洗速度快,效率比較高,溶劑本身可以不斷蒸餾再生,循環(huán)使用;但缺點也比較明顯,由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕,均為封閉車間,溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響,尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。
 
  2、鍍膜前清洗
 
  鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。
 
  由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時,還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
 
  鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式,分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類型如前所述。
 
  3、鍍膜后清洗
 
  一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗,其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀,以滿足無法一次加工成型的需求,或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求嚴(yán)格。
 
  接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,清洗難度不大,但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求,其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。
 
  4、半水基清洗
 
  近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝,它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點,可以做到無毒,氣味輕微,廢液可排入污水處理系統(tǒng);設(shè)備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。
 
  半水基清洗劑突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機(jī)污染物具有良好的清洗效果,極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力,延長了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運行成本。 它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢,并且必須要進(jìn)行漂洗。
 
  上述內(nèi)容便是本次為大家分享關(guān)于超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)的清洗方法,希望各位在看完本篇之后能夠在之后的使用過程中更多的使用把握,感謝您的觀看和支持,后期會整理更多資訊給大家,敬請關(guān)注我們的網(wǎng)站更新。

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